氨逃逸是指在脫硝反應塔出口煙氣中存在未參與反應的氨的現(xiàn)象。氨逃逸會對環(huán)境質(zhì)量、人類身體健康等方面造成重要影響。
氨逃逸的危害主要包括:
1. 資金浪費與環(huán)境污染:逃逸的氨氣不僅造成了資源的浪費，還可能對環(huán)境造成污染。
2. 腐蝕催化劑模塊:氨逃逸會腐蝕催化劑模塊，導致催化劑失活(即失效)和堵塞，從而大大縮短催化劑的使用壽命
3. 設(shè)備腐蝕與堵塞:逃逸的氨氣與空氣中的SO3反應，生成具有腐蝕性和粘結(jié)性的硫酸氨鹽，這會堵塞并腐蝕位于脫硝下游的設(shè)備如空氣預熱器蓄熱原件。此外，過量的逃逸氨還可能腐蝕脫硫系統(tǒng)中的管道、泵、閥和預熱器等設(shè)備。
4. 影響產(chǎn)品質(zhì)量:過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊(灰磚)的質(zhì)量下降，甚至無法銷售。
綜上所述，氨逃逸不僅對環(huán)境產(chǎn)生負面影響，還可能導致設(shè)備損壞、催化劑失活以及產(chǎn)品質(zhì)量下降。因此，對氨逃逸的監(jiān)測和控制至關(guān)重要。
氨逃逸設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖
針對環(huán)境監(jiān)測要求及市場需求，智易時代自主研發(fā)氨逃逸在線分析系統(tǒng)，設(shè)備系統(tǒng)包含預處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分，取樣方式為在位式高溫伴熱抽取，基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)，應用于氨法脫硝領(lǐng)域過程中逃逸NH3的監(jiān)測分析，為各個行業(yè)脫硝工藝過程控制提供了有效依據(jù)。
設(shè)備采用抽取旁路測量方式，現(xiàn)場取樣點選擇和安裝更靈活，鏡片光學與樣氣非接觸測量，不宜被腐蝕。同時系統(tǒng)整體抗機械振動能力強，測量不受溫度和壓力等過程參數(shù)影響，因此產(chǎn)品具有測量精度高、抗干擾能力強、維護簡單等諸多優(yōu)勢，可滿足實際工藝中的氨逃逸監(jiān)測需求。
目前智易時代已經(jīng)取得了氨逃逸在線分析系統(tǒng)CCEP證書及檢測報告。
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